日立高新磁控濺射器MC1000（Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了電磁管電極，能夠最大限度地減輕對樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。

日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大樣品直徑：60 mm

日立高新磁控濺射器（Hitachi Ion Sputter )MC1000的最大樣品高度：20 mm

日立高新磁控濺射器MC1000特點：

采用LCD觸摸屏，可以更加簡便地設定加工條件

可處理較厚或較大的樣品(選配件)

記憶功能可存儲常用加工條件

規(guī)格：

主要產(chǎn)品包括：掃描電子顯微鏡（SEM）、透射電子顯微鏡（TEM）、聚焦離子束（FIB）、原子力顯微鏡（AFM）等表面科學儀器和前處理設備，以及各類液相色譜(LC)、熒光分光光度計（FL)、紫外分光光度計（UV）、原子吸收分光光度計（AAS）、電化學等分析儀器。為了更好地服務于中國廣大的日立客戶，公司目前在北京、上海、廣州等十幾個主要城市設立有分公司、辦事處或聯(lián)絡處等分支機構，直接為客戶提供快速便捷的、專業(yè)優(yōu)質(zhì)的各類相關技術咨詢、應用支持和售后技術服務。